御微반도체: 국내 최초로 90~28nm 마스크 패턴 결함 검사 장비, 국내 톱 웨이퍼 제조사에 출하 - IT之家
Yuwei Semiconductor: China’s first mask pattern defect inspection equipment fully covering 90–28nm nodes shipped to a leading domestic wafer fab - IT之家
TL;DR AI
1분핵심 요약
御微半导体가 신형 마스크 패턴 결함 검사 장비 Raptor-600을 출시하고 국내 주요 웨이퍼 팹에 출하하기 시작했다.
회사 측은 Raptor-600이 90nm부터 28nm까지의 공정 노드를 포괄하며, 마스크 제작과 팹 현장 모두에 맞춰 설계됐다고 밝혔다.
이 장비는 포토마스크 및 웨이퍼 제조 과정에서 결함 식별, 위치 추적, 검사 속도를 높이는 것을 목표로 한다.
중국 반도체 업체 입장에선 국산 마스크 검사 장비를 확보해 수율을 보호하고, 성숙 공정용 수입 장비 의존도를 낮출 수 있다.